一、"N" 或 “W”峰出現(xiàn)的原因
1、TCD操作，用N2作載氣由于熱傳導率非線性引起；
2、FID操作時，樣品溶劑電離效率低(如CS2)，或氣流比欠佳時；
3、ECD操作時，由于檢測器被污染，溶劑峰或待測組分含量較高，或脈沖電源有毛病。
二、舌頭峰(前延峰)出現(xiàn)的原因
1、汽化溫度偏低；
2、載氣流量小：
3、進樣量大，汽化時間長；
4、汽化室被污染，樣品有吸附效應；
5、樣品在柱頭有冷凝或色譜柱被污染；
6、進樣技術差(揮發(fā)性組分的進樣速度太慢)；
7、峰前出現(xiàn)了“鬼”峰。
更新時間：2021-11-17
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